Profundas competências em sistemas de gás especializados para equipamentos de fornos de semicondutores

Como pedra angular do setor de alta tecnologia, a indústria de semicondutores depende de equipamentos de precisão – fornos a vácuo para crescimento de cristais, fornos CVI e fornos de deposição de revestimento SiC/TaC são essenciais para a preparação de materiais e embalagem de dispositivos. A estabilidade e a precisão desses sistemas dependem fortemente do fornecimento de gases especiais de altíssima pureza. Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd., um fornecedor completo de engenharia de sistemas de aplicação de gás, oferece distribuição de gás personalizada e soluções de fornecimento adaptadas para cada tipo de forno.

01Fornos a vácuo para crescimento de cristais

O crescimento de cristais exige pureza excepcional do gás – até mesmo vestígios de impurezas podem causar defeitos. Os sistemas da Wofly usam tubos duplos de aço 316L fundidos a vácuo (grau EP/BA, Ra ≤ 10 μin) para minimizar a adsorção de partículas. Toda a fabricação é conduzida em ambientes de sala limpa por pessoal em traje completo de sala limpa. O corte de tubos emprega cortadores de aço inoxidável dedicados com rebarbação, chanframento e purga de nitrogênio de alta pureza. A soldagem TIG autógena orbital sob proteção de argônio garante juntas sem vazamentos e sem contaminação. Controladores de fluxo de massa de alta precisão com regulação inteligente de pressão e unidades integradas de purificação de gás mantêm a pureza ultra-alta necessária para um crescimento consistente de cristais.

02Fornos de deposição de vapor CVI

Operando em temperaturas de até 2.100°C, os fornos CVI exigem excepcional estabilidade e uniformidade do fluxo de gás. A Wofly projeta sistemas de tubulação resistentes à corrosão com suportes de aço carbono (revestidos a pó) ou aço inoxidável - cortados mecanicamente, chanfrados e com tratamento anticorrosivo. O roteamento integrado de gás encurta os caminhos de entrega e reduz o tempo de residência, enquanto os sistemas de controle de fluxo de precisão regulam com precisão precursores como propileno e metano para corresponder às curvas complexas do processo CVI. Todas as vedações usam juntas de aço inoxidável ou níquel – juntas não metálicas são estritamente proibidas – eliminando riscos de vazamento em alta temperatura.

03Fornos de Deposição de Revestimento SiC e TaC

Esses fornos operam a 1.500–2.000°C com gases precursores agressivos, incluindo tetracloreto de háfnio, pentacloreto de tântalo e metano. A Wofly implanta tubulação SS 316L de grau EP com acessórios de vedação facial de metal VCR para eliminar o espaço morto e permitir uma limpeza de purga completa. Unidades de vaporização especializadas lidam com precursores em pó (TaCl₅, HfCl₄) com controle inteligente de proporção para correspondência precisa de fluxo de metano/hidrogênio (por exemplo, CH₄ 180 ml/min, H₂ 900 ml/min). Os sistemas integrados de detecção de gás GDS com ligação de resposta a emergências fornecem monitoramento de segurança em tempo real.

Serviço de ciclo de vida completo O serviço da Wofly abrange todo o ciclo de vida do projeto: levantamento do local e análise de processos, projeto de sistema personalizado, pré-fabricação (seções soldadas no máximo de 12 m, apoiadas a cada 3 m durante o transporte), instalação no local, testes de pressão/vazamento/partículas/pureza e calibração e manutenção contínuas. Cada sistema é construído de acordo com os padrões da indústria de semicondutores.

À medida que a tecnologia de semicondutores avança, a Wofly continua comprometida com soluções de gases especiais inteligentes e de precisão, ajudando clientes em todo o mundo a obter operações de fornos mais seguras, confiáveis ​​e de maior desempenho.