Notícias da Empresa Inovação em Tecnologias de Revestimento a Vácuo e Engenharia de Superfícies
Resumo
Centrada no tema central de “Inovação em Tecnologias de Revestimento a Vácuo e Engenharia de Superfícies”, a 7ª Conferência de Intercâmbio de Tecnologia de Vácuo começou oficialmente hoje em Shenzhen.
Guiada pelo princípio central de “Quebrando Barreiras Técnicas e Promovendo a Sinergia Industrial”, esta conferência apresenta sessões de intercâmbio focadas em três tópicos principais: Deposição por Camadas Atômicas (ALD), Deposição Química de Vapor (CVD) e Revestimentos à base de carbono DLC/Ta-C.
Reunindo especialistas internacionais da academia, indústria e instituições de pesquisa, juntamente com líderes técnicos de empresas líderes, a conferência se aprofundará nos últimos avanços em tecnologias-chave, caminhos para a implementação industrial e desafios centrais da indústria. Ela visa estabelecer uma plataforma integrada para “intercâmbio técnico, correspondência de recursos e transformação de conquistas”, capacitando a tecnologia de vácuo a alcançar uma profunda integração e aplicação generalizada em setores críticos como semicondutores, nova energia e materiais avançados.
1. ALD/CVD “Controle de Precisão” Resolve o Enigma
A seleção de válvulas para sistemas ALD/CVD requer não apenas atender às especificações fundamentais, mas também se alinhar aos detalhes do processo. Alcançar uma inovação de “aceitável para premium” em revestimento a vácuo e engenharia de superfícies depende do “controle de precisão em nível de mícron” nos processos ALD/CVD—onde a velocidade de resposta da válvula e a estabilidade do sistema de gás especial determinam diretamente a uniformidade, pureza e taxas de rendimento do revestimento.
Nos processos de revestimento a vácuo, o desempenho do equipamento de controle de fluidos é crítico. Nossos produtos se destacam em velocidade de resposta, taxa de vazamento e resistência à temperatura. Equipamentos com corpo de válvula de aço inoxidável 316L EP-grade com vedações de PTFE alcançam uma taxa de vazamento ≤1×10⁻¹² Pa·m³/s, atendendo aos requisitos do processo ALD. Nossas válvulas multi-orifício, projetadas para aplicações de revestimento ALD em alta temperatura, suportam temperaturas elevadas, otimizando a eficiência da purga para minimizar os efeitos residuais do precursor na qualidade do revestimento.
Nossos corpos de válvula são construídos a partir de conjuntos de válvulas resistentes à corrosão contendo mais de 25% de liga de cromo-níquel-molibdênio. O processo CVD garante operação contínua e de longo prazo sem corrosão ou vazamento. Em relação ao controle de fluxo, seu sistema de controle de intertravamento de múltiplas válvulas mantém a variação do fluxo dentro de ±0,2%, superando significativamente o padrão de precisão média da indústria de ±0,3%. Isso resolve efetivamente o desafio da indústria de “flutuações de fluxo causando desvio na espessura do revestimento.”
A “limpeza, estabilidade e rastreabilidade” dos gasodutos de gás especial servem como a salvaguarda invisível para os processos de revestimento a vácuo.
Limpeza do Gasoduto
A limpeza das paredes internas do gasoduto deve ser rigorosamente controlada. Para isso, estabelecemos um sistema abrangente de gerenciamento de limpeza que engloba “limpeza, soldagem, purga e inspeção.” Ao empregar um processo que combina “limpeza ultrassônica + purga de nitrogênio de alta pureza + tratamento de passivação,” o valor Ra das paredes internas do gasoduto atinge consistentemente 0,35μm.
Correspondência precisa de acordo com a classificação de pressão
As pressões dos gasodutos variam significativamente em diferentes cenários de revestimento a vácuo (ALD normalmente varia de 10⁻³ a 10⁻⁵ Pa, enquanto CVD opera comumente de 0,1 a 0,5 MPa), exigindo métodos de conexão compatíveis com a classificação de pressão.
· Baixa pressão (≤0,3 MPa): Conexões de virola dupla
· Alta pressão (≥0,5 MPa): Soldagem TIG automática
· Ultra-alto vácuo (≤1e-4 Pa): Flanges selados com metal
Equilíbrio Dinâmico de Pressão
O fornecimento de gás pulsado no processo ALD causa flutuações de pressão no gasoduto. Se as flutuações excederem ±0,02 MPa, a estabilidade da concentração do precursor é comprometida. Ao ajustar o regulador de pressão a montante, controlamos as flutuações de pressão de entrada para ±0,005 MPa. Combinado com a regulação de feedback em tempo real de um sensor de pressão de alta precisão com precisão de ±0,1% FS, alcançamos, em última análise, flutuações de pressão no gasoduto ≤±0,003 MPa, garantindo uma concentração consistente de jato de pulso ALD.
Os equipamentos de gás especial devem fazer a transição de “operação isolada” para “integração profunda com o processo.”
Os processos CVD normalmente exigem 2-4 gases misturados em proporções fixas. Portanto, empregamos controladores de fluxo de massa (MFCs) de alta precisão líderes internacionalmente com precisão de medição de ±0,05% FS, garantindo estabilidade e confiabilidade excepcionais no controle do fluxo de fluidos. Equipados com nosso algoritmo de mistura proprietário, esses controladores monitoram e compensam continuamente os efeitos das flutuações de temperatura e pressão do gás nos parâmetros de fluxo.
O gás de exaustão gerado pelo processo CVD deve atender aos padrões de emissão. Empregamos um sistema integrado de tratamento de gás de exaustão.
Estágio de Adsorção a Seco: Equipado com adsorventes especializados altamente seletivos, este sistema de adsorção de múltiplos estágios atinge uma eficiência de adsorção ultra-alta de ≥99,9%. Estágio de Incineração: Para compostos orgânicos complexos e difíceis de degradar, é criado um ambiente de pirólise em alta temperatura. Combinado com a tecnologia de aprimoramento da combustão turbulenta, isso atinge uma taxa de decomposição profunda de ≥99,99%, eliminando completamente o risco de poluentes orgânicos.
Sistema Integrado “Gabinete de Gás Especial + Tubulação + Equipamento”
Para minimizar os pontos de interface e reduzir os riscos de vazamento, oferecemos uma solução integrada. Desde o projeto do gabinete de gás especial (incluindo purificação, distribuição e controles de segurança) até a soldagem de gasodutos e a integração de equipamentos de tratamento de gás de exaustão, todo o processo é executado profissionalmente por uma única equipe.
Aproveitando a Associação como uma Ponte para Avançar a Tecnologia da Indústria
Esta conferência sobre “Inovação em Tecnologia de Revestimento a Vácuo e Engenharia de Superfícies” serve não apenas como uma plataforma para intercâmbio tecnológico em toda a indústria, mas também exemplifica o compromisso da Wofei Technology em aprofundar as conexões da indústria e avançar a “fabricação impulsionada pela tecnologia.”
No futuro, continuaremos a aproveitar a Associação da Indústria de Tecnologia de Vácuo como uma ponte, focando nos requisitos de controle de fluidos para processos principais como ALD/CVD. Nosso objetivo é impulsionar a implementação de mais inovações tecnológicas, impulsionando a tecnologia de revestimento a vácuo e engenharia de superfícies em direção a uma nova era de maior precisão e segurança aprimorada!
