Detalhes do produto
Lugar de origem: China
Marca: AFK
Certificação: CE
Número do modelo: CV
Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima: 1
Preço: negociável
Detalhes da embalagem: Embalagem de Expotrt
Tempo de entrega: 1week
Termos de pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram, MoneyGram
Habilidade da fonte: 5000pc
Aplicação: |
General |
Material: |
de aço inoxidável |
Pressão: |
Alta pressão |
Temperatura dos meios: |
Temperatura média, temperatura normal, baixa temperatura |
Meios: |
Gás, ar |
Tamanho portuário: |
padrão |
Padrão ou não padronizado: |
padrão |
Garantia: |
1 ano |
Aplicação: |
General |
Material: |
de aço inoxidável |
Pressão: |
Alta pressão |
Temperatura dos meios: |
Temperatura média, temperatura normal, baixa temperatura |
Meios: |
Gás, ar |
Tamanho portuário: |
padrão |
Padrão ou não padronizado: |
padrão |
Garantia: |
1 ano |
Filtro do gás
| O filtro do gás usado no sistema de gás da pureza alta é um dispositivo para filtrar para fora as partículas no gás de acordo com o mecanismo da colisão, da difusão e da intercepção. Com o desenvolvimento do circuito integrado ao nível do megabit, umas exigências mais restritas são propostas para ultra limpo. De acordo com semi padrão, as partículas 2011lm no nitrogênio de 10011 categorias e o argônio fornecido pelo encanamento são menos de 014 litros; O número de partículas > de 011lm no gás 16mdram é menos de 1 L. No gás ultra-alto da pureza ou no sistema de abastecimento de gás eletrônico, a fim remover as partículas de queda causadas pelo impacto da vibração ou do fluxo de ar, os filtros devem ser instalados rio abaixo das válvulas e dos encaixes e antes de usar o gás. A seleção e a especificação do filtro da partícula dependem da especificação de controle do gás. O escudo do filtro é feito de 316 de aço inoxidável. O elemento de filtro aglomerou a liga baixa porosa do elemento de filtro do metal, o resistente à corrosão e o resistente ao calor do níquel, liga de níquel de 100%, cerâmico de alumínio, Teflo |
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Características do produto
| Vasta gama de aplicações, escala do fluxo de 15 a 300SL/minuto É compatível com a maioria de gás do processo do semicondutor da pureza alta. capacidade da filtragem do nanoparticle 3 manter a eficiência alta do fluxo, gota de pressão ultra-pequena. 5Ra electropolished a superfície pode impedir a poluição interna. Após a limpeza com água deionized, é cozido com nitrogênio quente para encontrar o padrão do processo do semicondutor. Um milhão de fabricações assépticas livres de poeira da oficina, limpeza e ambiente de empacotamento. Escapamento 100% do hélio do teste. |
Parâmetros de desempenho do produto
| Precisão da filtragem | ≥0.0025μm | |
| eficiência da filtragem | Remoção rate99.99999%≥0.0025μm | |
| fluxo avaliado | 15L/Min | |
| 60L/Min | ||
| 120/Min | ||
| 200Min | ||
| 300Min | ||
| composição do filtro | Elemento de filtro | 316/PTFE |
| escudo | steel316L inoxidável | |
| condições de trabalho | pressão máxima da entrada | 21Mpa (310kgf/cm2) |
| pressão diferencial máxima | Mpa 15(153kgf/cm2) | |
| temperatura de trabalho máxima | 430℃ (gás inerte) | |
| taxa do escapamento do hélio | 1x10-9atm cc/sec | |
| revestimento de superfície | ≤Ra 5μm | |
Nossa empresa
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Embalagem & entrega
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